中国科学院产品研发者答复5nm光刻工艺提升ASML垄断性：这是一个曲解

发布时间：2020-12-11 12:57:49发布人：root

前不久，中科院官网上发布的一则研究成果显示信息，该精英团队产品研发的新式5nm极高精密度激光器光刻技术生产加工方式，接着这被外部讲解为，该精英团队早已提升了5nm ASML的垄断性，对于此事有关人员也是开展了答复。
据《财经》(blog,新浪微博)报导称，该毕业论文的通讯作者、中国科学院研究者、博导刘前公布答复称，这是一个曲解，这一技术性与极紫外线光刻工艺是两码事。
依照刘前的叫法，假如极高精密度激光器光刻技术生产加工技术性可以用以高精密掩免费模板的生产制造，则有希望提升 在我国掩免费模板的生产制造水准，对目前光刻技术的处理芯片的图形界限变小也是十分有利的。这一技术性在专利权上是彻底独立的，成本费很有可能比如今的还低，具备产业发展的市场前景。
可是，就算这一技术性完成商用化，要提升西班牙ASML（阿斯麦）在光刻技术上的垄断性，也有许多 关键技术必须提升，比如摄像镜头的数值孔径、灯源的光波长等。
据了解，高档掩免费模板在中国還是一项“受制于人”技术性。在半导体材料行业，除开intel、三星、tsmc三家能独立生产制造外，高档掩免费模板关键被英国的Photronics、大日本包装印刷株式（DNP）及其日本国丝网印刷株式（Toppan）三家企业垄断性，依据第三方市场调研组织展望产业研究院的数据信息，这三家企业的市场占有率占到全世界的82%。
一直以来，业内都会试着另一条关键技术，比如华籍生物学家、普林斯顿大学周郁在1996年最先明确提出纳米技术印压技术性，现阶段仍没法提升商用化的窘境
现阶段的现况是，没有一个我国可以自立自强进行光刻技术的生产制造，我国以一国之力，短时间要提升ASML在极紫外线光刻工艺上的垄断性，基本上是不可能的事情。

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