中国科学院院士：当地可控性的55nm比進口7nm更加有意义

发布时间：2021-04-27 20:26:02发布人：日新博客

近期好多个月来，全世界半导体材料生产能力焦虑不安，在其中55nm加工工艺远比想像中断货，反倒7nm、5nm等顶尖加工工艺并并不是那麼断货。
日前，在中国工程院举办的“中国工程院信息内容与电子技术最前沿社区论坛”上，中国科学院院士吴汉明对光刻技术、全产业链国内生产制造的等至关重要的问题开展了剖析。
在全部全产业链阶段，关键的三大“受制于人”生产制造阶段包含了加工工艺、武器装备/原材料、设计方案IP核/EDA。他表明，在半导体器件层面，在我国光刻技术、掩膜版、大单晶硅片商品基本上都需要依靠進口；在武器装备行业，国际舞台上看不见中国武器装备的影子。
除此之外，吴汉明提及，10nm连接点下列优秀生产能力占17%，83%销售市场在10nm之上连接点，自主创新室内空间极大。
在优秀制造产品研发不占上风的状况下，在我国能够 应用完善的加工工艺，把集成ic的特性提高，这也是他明确提出的一个见解：当地可控性的55nm芯片制造，比彻底進口的7nm更加有意义。
吴汉明注重，自主可控虽然关键，但还要了解到集成电路芯片产业链是国际性的产业链。
以EUV光刻技术为例子，牵涉到十多万零部件，必须5000多经销商支撑点，在其中32%在西班牙和美国，27%经销商在美国，14%在法国，27%在日本，这就展现了经济全球化技术协作的結果。
在这其中，“大家有什么阶段拿得住的？是在我国产品研发和产业发展规划的核心内容。”
“尽管集成ic的难度系数和成本费一直提升，但放缓的颠覆性创新给追赶者产生机遇。”吴汉明剖析称，在这种挑戰下，优秀体系结构、特点加工工艺和优秀封裝在芯片制造层面融合应用，芯片制造行业大有作为。
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