三星初次发布运行内存密秘：第四代10nm级加工工艺实则14nm

发布时间：2021-05-11 22:08:00发布人：日新博客

与CPU等逻辑性集成ic立即应用精确的加工工艺不一样，闪存芯片在20nm以后就越来越模糊不清了，生产商称作10nm级加工工艺，事实上用到1X、1Y、1Znm来取代。
1X、1Y、1Znm究竟是什么加工工艺？三星、SK海力士及美光三大运行内存大佬以前一直不愿确立，依照业内的剖析，大致而言1Xnm加工工艺等同于16-19nm等级、1Ynm等同于14-16nm，1Znm加工工艺等同于12-14nm等级。
在1X、1Y、1Znm以后，还会继续有1αnm、1βnm、1γnm三种加工工艺，三星今年下半年批量生产1αnm加工工艺的运行内存。
值得一提的是，在全新的公示中，三星也初次确立了1αnm的实际水准，那便是14nm加工工艺，这或是三家生产商中第一个更改运行内存加工工艺界定的。
对于三星为何要敢于创新，很有可能跟1αnm运行内存加工工艺进展落伍相关，2020年1月份美光就公布批量生产1αnm加工工艺闪存芯片了，三星晚了几个月，如今透明度实际加工工艺，也是有将美光一军的寓意，由于三星早期就猜疑美光的1αnm加工工艺并并不是真真正正的1αnm，就看美光是不是接招了。
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