花了7100多万元 中国企业引入ASML光刻技术：将产品研发28nm光刻技术

发布时间：2021-01-21 21:16:57发布人：未知资讯

1月19日晚，中国半导体器件企业晶瑞股份发布公示，声称购买ASML企业光刻技术一台，将用以高档光刻技术新项目。
晶瑞表明，自企业进行机器设备购置主题活动至今，遭受投资人普遍高度关注。
经企业多方面商议、积极主动运行，成功购买ASML XT1900 Gi型光刻技术一台。该机器设备于2021年1月19日运到苏州市并取得成功搬进企业高档光刻技术产品研发试验室。
下一步，企业将积极主动机构有关資源，尽早进行机器设备的安裝调节工作中。
从晶瑞企业的信息内容看来，企业购置的光刻技术机器设备为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻技术，可用以产品研发最高像素达28nm的高档光刻技术。
除此之外，28nm等级的光刻技术在ASML企业中并算不上多优秀的型号规格了，官在网上列举的沉浸式体验光刻技术最旧的型号规格也是XT1965CI了，可用以20nm下列的加工工艺。
但是晶瑞企业选购的这台光刻技术花了1102.5万美元，折合rmb7129万余元，价值不菲。
晶瑞企业表明，企业批量生产光刻技术近30年，建立了中国领跑的光刻技术研发部门，具备丰富多彩的光刻技术产品研发和生产制造工作经验，依次担负了我国“85”科技攻关、“863”重特大重点、国家科技部创新基金等科研项目、担负了我国02重特大重点“i线光刻技术产品研发及产业发展”新项目，并成功根据我国02重特大重点工程验收。
企业进行小试的 KrF光刻技术已进到顾客产品测试，做到0.15μm的屏幕分辨率。
此次选购的 ASML光刻技术机器设备系企业集成电路芯片生产制造用高档光刻技术产品研发新项目的必需实验仪器，致力于产品研发出更高档的 ArF 光刻技术，若产品研发工作中顺利开展，将有利于企业将光刻技术商品编码序列完成到 ArF 光刻技术的超越，并最后完成运用于12英寸芯片制造的战略部署。
#阿斯麦#光刻技术#光刻技术

相关评论 (0条)

暂无任何评论，欢迎您点评！

我要评论