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创建于 2020年10月20日

MOCVD设备
1. 发展史：国际上起源于80年代初，我国在80年代中（85年）。
国际上发展特点：专业化分工，我国发展特点：小而全，小作坊式。
技术条件：
a.MO源：难合成，操作困难。
b.设备控制精度：流量及压力控制
c.反应室设计：Vecco:高速旋转 Aixtron:气浮式旋转Tomax Swan :CCS系统（结合前两种设备特点） Nichia:双流式

2. MOCVD组成

常用MO源：
TMGa(三甲基镓，液态)
TMAl（三甲基铝，液态）
TMIn（三甲基铟，固态，现已有液态）
TEGa（三乙基镓，液态）
Cp2Mg（二茂基镁，固态，现已有液态）

载气为纯度很高（99.999999%）的氢气和氮气

特气：高纯度（99.9999%）的AsH3(砷烷，液态)PH3（磷烷，液态）Si2H6（乙硅烷，气态）（前三种为红黄光生产使用）NH3（氨气，液态）SiH4（硅烷，气态）（后两种为蓝绿光生产使用）

气控单元：主要由MFC（流量计）、PC（压力计）和一些管道组成，用于气体的控制和输送。控制单元：根据PC机输入的生长程序，对工艺进行控制。

反应室：a.按压力分可分为常压反应室（如Nichia公司的设备）和低压反应室（如Veeco和Aixtron公司的设备）。两者区别：气体流速。低压反应室优点：气体切换快，停滞层薄，预反应小，界面转换快。B.按形状分：水平式（Aixtron）、立式（Vecco和Tomax Swan）、桶式（常用于Si外延）和双流式（Nichia）。

衬底：红黄光生长用GaAs(砷化镓)，蓝绿光生长用Al2O3(蓝宝石)（最通用）、SiC（Cree）和GaAs(砷化镓)、Si(硅)（后两种仍处于实验室阶段）等。

尾气处理器：主要用于生长后的废气处理，使其达到无污染排放。红黄光生长产生尾气用化学尾气处理器处理，蓝绿光生长产生的尾气用湿法尾气处理器处理。

2021年05月03日 22时33分来自微群 - 工作微群

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